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陶瓷抛光盘的盘面材料属于超硬材料,抛光过程是硬抛过程。抛光的机理理论是：在压力和转速的作用下，研磨液在抛光盘面与工件之间形成悬浮的水膜。即在这层水膜的作用下对工件进行研抛，根据不同粒度的抛光液得到相应的表面光洁度。
陶瓷抛光盘是采用氧化铝陶瓷材料作为基面,金属骨架作为基体的抛光盘。主要用于陶瓷材料、蓝宝石材料、光学玻璃等材料的抛光。
陶瓷抛光盘可以加工的材料:氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷、碳化硅陶瓷、光学玻璃、蓝宝石晶片等材料的抛光加工。
加工陶瓷密封圈和水阀片可达到的参数:表面粗糙度:Ra0.1um.平面度:1-2个光圈。
关键词：
陶瓷
抛光
陶瓷抛光盘
超硬材料
水阀片
